Produkter

Vi undersøgte en nitrogen-doteret nanocarbon-filmelektrode med en nitrogenkoncentration på mindre end 10,9 at% dannet ved den ubalancerede magnetron (UBM) sputtering metode.Sp(3)-indholdet i den nitrogen-doterede UBM-sputterende nanocarbonfilm (N-UBM-film) stiger let med stigende nitrogenkoncentration.Den nitrogenholdige grafitlignende binding aftager, og pyridinlignende binding stiger med stigende nitrogenkoncentration.N-UBM filmen har en meget glat overflade med en gennemsnitlig ruhed på 0,1 til 0,3 nm, hvilket er næsten uafhængigt af nitrogenkoncentrationen.N-UBM-filmelektroden viser et bredere potentialevindue (4,1 V) end en ren-UBM-filmelektrode (3,9 V) på grund af dens lille stigning i sp(3)-indholdet.Den elektrokatalytiske aktivitet steg med stigende nitrogenkoncentration, hvilket tyder på, at elektroaktiviteten er maksimal, når nitrogenkoncentrationen er omkring 10,9 at%, hvilket bekræftes af topseparationen af ​​Fe(CN)6(4-).Hydrogenperoxid (H2O2)-reduktionspotentialerne ved N-UBM-filmelektroden skiftede omkring 0,1 V, og spidsstrømmen af ​​H2O2 steg omkring 4 gange.